精密陶瓷制造商
氮化鋁陶瓷、macor、氧化鋁陶瓷生產加工企業
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PRODUCT CATEGORIES
碳化硅陶瓷現如今是一種先進的陶瓷材料，他具有很多的性能優點，可圈可點的是他的導熱系數，他的導熱系數很好可以達到170W/m·k，他是半導體領域的經常會用到的陶瓷，他還具有化學性能穩定、熱膨脹系數小、硬度大、密度小、耐磨性能好等等優良的特性，所以他被廣泛的應用在各個領域
在碳化硅半導體產業鏈中，主要有“碳化硅高純粉料→襯底→外延片→功率器件→模塊封裝→終端應用”等環節。
雖然碳化硅作為陶瓷材料受到的關注度遠不如其作為半導體材料，但其仍是一種應用極廣的陶瓷材料，甚至已經成為航空航天、光刻機在內的半導體設備等高精尖領域必不可少材料。
在高端光刻機中，涉及高效率、高精度、高穩定性的運動控制技術和驅動技術，對結構件的精度和結構材料的性能提出了極高的要求。碳化硅陶瓷具有極高的彈性模量、導熱系數和較低的熱膨脹系數，不易產生彎曲應力變形和熱應變，并且具有極佳的可拋光性，可以通過機械加工至優良的鏡面，因此采用碳化硅陶瓷作為光刻機用精密結構件材料具有極大的優勢。在光刻機中碳化硅陶瓷主要用于制造E-chuck、Vacumm-chuck、Block、磁鋼骨架水冷板、反射鏡、導軌等部件。
在刻蝕設備中，等離子體通過物理作用和化學反應會對設備器件表面造成嚴重腐蝕，一方面縮短部件的使用壽命，降低設備的使用性能，另一方面腐蝕過程中產生的反應產物會出現揮發和脫落的現象，在工藝腔內產生雜質顆粒，影響腔室的潔凈度。因此，刻蝕機腔體和腔體部件材料的耐等離子體刻蝕性能變得至關重要。
在刻蝕設備中，碳化硅被用于刻蝕機腔體和腔體部件、聚焦環、刻蝕環等關鍵部件。
